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深度报告 2025 · PDF

光刻机行业深度核心技术竞争格局国产替代及相关公司深度梳理

半导体

光刻机占半导体设备市场约24%，2024年全球半导体设备销售额1090亿美元。ASML、Nikon、Canon主导市场，EUV光刻机由约5000家供应商10万个零部件构成，光学系统核心由蔡司独家供应。测算2025年全球光刻机市场293.7亿美元、EUV达96亿美元；大基金三期重点扶持，国产物镜已搭载i-line光刻机，国产替代势在必行。

年份2025（2025-07）
类型深度报告 / 行业研究 / 公司研究
格式PDF
收录名2025-07_光刻机行业深度核心技术竞争格局国产替代及相关公司深度梳理.pdf
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主题背景「半导体」主题收录概览

本报告属于「半导体」主题。该主题有较为稳定的收录：截至 2026 年 10 月，本站在该主题下已收录 230 篇报告，发布年份跨度为 2024–2026 年。

其中 2026 年收录 96 篇，2025 年收录 114 篇，近两年新增占该主题总量的 91%，是当前收录增量最集中的方向。

类型构成上以 深度报告（25 篇）、白皮书（23 篇）、行业研究（13 篇） 为主；本篇即为其中的深度报告类。

《光刻机行业深度核心技术竞争格局国产替代及相关公司深度梳理》发布于 2025 年 7 月，是该主题 2025 年度 114 篇收录之一。

2024 20
2025 114
2026 96

上图为「半导体」主题最近 3 个年度的收录量分布（单位：篇）。

题录信息可用于文献引用与出处核对

题名
光刻机行业深度核心技术竞争格局国产替代及相关公司深度梳理
发布日期
2025 年 7 月（2025-07）
报告类型
深度报告 / 行业研究 / 公司研究
主题标签
半导体
文件格式
PDF
题录编号
R-5099be1907
收录名称
2025-07_光刻机行业深度核心技术竞争格局国产替代及相关公司深度梳理.pdf
索引来源
joliya.cn 报告发现库（题录索引，非全文）
建议引用格式：joliya.cn 报告发现库. 《光刻机行业深度核心技术竞争格局国产替代及相关公司深度梳理》[题录]. 2025 年 7 月. 题录编号 R-5099be1907. https://joliya.cn/r/5099be1907.html

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《光刻机行业深度核心技术竞争格局国产替代及相关公司深度梳理》是什么时候发布的？
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本报告归属「半导体」主题。该主题在 joliya.cn 下已收录 230 篇报告，发布年份覆盖 2024–2026 年。
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